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Martes, 19 Septiembre 2017 18:09

Ropa fabricada con tecnología de la URJC en la Madrid Fashion Week

El proyecto ‘Wall Dress’, que ha ganado la edición de este año del certamen Samsung Ego Innovation Project, se ha presentado en la Madrid Fashion Week, durante el desfile de la firma ZAP&BUJ, que ha inaugurado la jornada de jóvenes diseñadores.

Raúl García Hémonnet

‘Wall Dress', propone un juego entre arquitectura y moda basado en una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierte en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma, que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor.

El proyecto ‘Wall Dress’ ha contado con la participación del profesor Antonio Julio López Galisteo, del área de Ciencia e Ingeniería de Materiales de la Universidad Rey Juan Carlos, de la investigadora Laura Peponi del grupo de Ingeniería Macromolecular del Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros (ICTP) del CSIC, y de la empresa Aitex.

Las prendas elaboradas en este proyecto han integrado la colección que la firma ZAP&BUJ ha presentado en su desfile en la Madrid Fashion Week, inaugurando la jornada de jóvenes talentos con una propuesta en la que, según afirman las diseñadoras, se aproxima la arquitectura al cuerpo humano, haciendo posible retomar la conexión que ambos han perdido a lo largo de la historia en los espacios que habitamos.

Para la elaboración de esta vanguardista vestimenta, se han empleado materiales poliméricos autorreparables y con memoria de forma para la confección de tejidos y materiales inteligentes. Para ello, el profesor Antonio Julio López, ha ideado, fabricado y dado forma simple a las muestras de material polimérico para que posteriormente pudieran ser confeccionadas.

SamsungEGO2

Por su parte, el ICTP ha generado los tratamientos termo-mecánicos necesarios para generar la memoria de forma de los tejidos empleados y ha asesorado a la firma ZAP&BUJ sobre la mejor forma de implementar los materiales en las prendas.